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        PACVD 技術
        PACVD是等離子體輔助化學氣相沉積的縮寫

        什么是PACVD技術?
               PACVD是等離子體輔助化學氣相沉積的縮寫澳门网上在线投注平台,有時也寫作PECVD,E代表增強的意思。在PVD過程中,涂層材料是從固體形式蒸發得到;而在PACVD過程中澳门网上在线投注平台,涂層是從氣體形式得到,氣體,如HMDSO(六甲基二甲硅醚)在等離子體作用下,大約200 ºC時發生裂解,非反應氣體,如氬氣,可以使離子沉積到工件表面并形成很薄的涂層,類金剛石(DLC)涂層就是PACVD技術制備的很好的例子,通常應用于摩擦學和汽車行業。

               等離子體輔助化學氣相沉積 (PACVD) 用于沉積 DLC 涂層, 通過等離子體激發和電離澳门网上在线投注平台,激活工藝中的化學反應,借助此工藝,我們可以在約 200 °C 的低溫下使用脈沖輝光或高頻放電進行沉積,用 PACVD 生成的類金剛石涂層具有摩擦系數低和可擴展的表面硬度特性澳门网上在线投注平台。

        PACVD技術工藝圖

        工藝基礎  (PACVD)

        涂層厚度

        1 – 8µm

        硬度

        1,000 – 3,500HV

        耐高溫

        350 – 400 °C

        沉積溫度

        180 – 350 °C

        優點:
        • 高耐磨性
        • 低摩擦系數
        • 耐腐蝕
        • 即使兩個涂層表面相對摩擦,每個涂層都能夠提供最佳的性能和可靠性

        典型應用:
        • 摩擦學應用
        • 塑料加工
        • 光學 行業
        • 半導體行業
        • 汽車零部件
        • 工程
        • 賽車部件

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