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        實驗型真空鍍膜機
        • 該設備適用于任意底色的塑料,陶瓷、樹脂工藝品,玻璃等經真空鍍膜后皆可鍍成金、銀、七彩、紅、紫、藍、灰、黑等多種鮮艷顏色,主要用于科研、教學、電子元件、及涂料生產等行業的表面表面鍍膜。
        • 該設備是利用真空磁控濺射鍍膜方式,可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、金屬等材料表面鍍制各種金屬、非金屬、化合物薄膜材料。如Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO、AlO、TaN、ITO、AZO等,沉積的薄膜具有良好的均勻性、附著力,該設備具有濺射速率快、基片升溫低、加熱穩定等特點。
        • 該設備運用脈沖激光鍍膜(PLD)的薄膜沉積技術,通過脈沖激光快速蒸發靶材,生成與靶材組成相同的薄膜。借著連續溶化混雜的靶,制造不同物質的多層膜,透過控制脈沖的數量,可以精密調節薄膜厚度至單原子層。
        • 匯成真空在高校教學、科學研發等領域,針對不同成分的薄膜生長,設計生產不同的超高真空薄膜設備。
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