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        連線式磁控濺射鍍膜生產線
        • 該系列生產線主要用于在平板玻璃、壓克力、PC、PET等表面鍍制高質量、高性能金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射(AR)、增反射膜,LOW-E等膜層。本公司可按用戶要求提供設計,提供全套設備,負責工藝,按交“鑰匙”工程服務。
        • 利用射頻離子化學氣相沉積技術,具有沉積速率快,成膜質量好的特點,可快速鍍制大型平面的氧化物薄膜、氮化物薄膜、氧氮化物薄膜、無定型硅薄膜和碳化硅薄膜等薄膜。
        • 該連續線共設計有十五個真空腔體,其中進口室一個、出口室一個、進口緩沖室一個、出口緩沖室一個、進口傳送室一個、出口傳送室一個和傳送室兩個;濺射鍍膜室七 個,每個濺射鍍膜室可以同時安裝四個陰極。
        • ?抗反射導電膜連續磁控濺射生產線共設計有十五個真空腔體,濺射鍍膜室七個,每個濺射鍍膜室可以同時安裝四個陰極;高真空室采用插板閥隔離,設備配有26臺渦輪浮分子泵,13臺機械泵以獲得穩定的抽速和均勻的氣體分布。
        • 該生產線共設計有七個真空腔體部分,兩對采用PCU04閉路環控制的中頻孿生Si靶,十對圓柱AZO靶,采用分子泵抽氣形成氣氛隔離的先進設計。
        • 該生產線運用在薄膜太陽能電池上,透明導電膜用為減反射層和透明電極使用,可以提高太陽能的轉化效率,用AZO薄膜代替ITO薄膜,不僅可以降低生產成本,而且無毒環保,膜層性能更加穩定。
        • 本設備廣泛運用在太陽能電池上,透明導電膜作為減反射層和透明電極使用,可以提高太陽能的轉換效率,用CIGS薄膜替代傳統薄膜,降低成本,無毒環保,膜層穩定,同時可以消除立式生產線無法大規模生產的弊端,可以大大提高生產量。
        • LOW-E磁控濺射鍍膜生產線,主要用于單、雙銀低輻射玻璃鍍膜,以及可鋼化單、雙銀低輻射玻璃鍍膜。
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